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    正一品石材护理

    环氧磨石表面处理的全新工艺

    文章出处:责任编辑:人气:-发表时间:2019-07-09 09:35【

    一、环氧磨石表面处理传统工艺

    1、开面后对孔洞用环氧砂浆修补后打磨,修补1-2道碟后直接水磨到3000号碟;

    2、表面干燥后用聚胺脂罩面,干燥后即可以使用。

    二、传统工艺存在的问题

    (一)修补存在问题

    无论用环氧砂浆修复多少遍,均无法将其表面孔洞或毛孔较为彻底地修复,因为砂浆会造成一定量气孔在打磨后再次出现,同时,打磨后边碟时也会带出原表面不存在的新的气孔。

    (二)罩面或抛光存在问题

    1、尽失美感:无法充分彰显出“石米”的立体感和颜色美;光泽整体成鱼鳞状、散光;物体倒影弯曲变形,不真实;

    2、耐候性差:有机材料在环境中容易被紫外线酸碱老化,不能持久;

    3、耐磨性差:由于修补工艺的缺憾,罩面后,表面仍然存在不平整现象,摩擦受阻,表面容易出现划痕;同时有机物的硬度与无机物相比也差些,常出现划伤和剥脱。

    有机罩面处理后光泽模糊

    有机罩面后光怪陆离

    三、纳米二氧化硅修补与晶面工艺

    1、环氧开面后的修补:开面后对孔洞用环氧砂浆修补后打磨,修补1-2道碟;

    2、无机微填充修补:用500号的厚碟一边打磨一边喷“魔硅”,将打磨出来的粉料在魔硅的湿润下填入孔洞中,能充分而彻底地将新旧孔洞一并修复成玻璃表面。

    四、环氧磨石表面处理全新工艺

    1、渗硅:500号打磨后,用喷壶将魔硅均匀喷洒于环氧表面并充分干燥(表面无明显水渍)。由于环氧吸水力差,要加强空气流动;

    2、水磨1000号碟:表面魔硅干燥后,用水磨碟细致打磨;

    3、底光要求:1000号水磨碟打磨后出光在20-30度左右;

    4、无机晶面:表面干燥后用晶面机(或正一品“膏抛机”)抛108度特种石材晶面膏1-2遍,若仍存在抛光不均匀时,可用111度膏剂浆修复晶面。

    无机处理表面光泽真实、清晰、纯正、自然

    五、新工艺优点

    1、施工简单、一气呵成:全程基本无过长的等待时间,一气呵成,做完便可以使用;

    2、美到极致:玻璃质感强烈,其中的“石米”立体感与颜色彰显极致;光泽纯正真实,光泽倒影加倍“放大”了空间;

    3、功能性强:耐磨防滑性强,耐候性好,特别是对紫外线反射效果好,能有效防止环氧地坪被紫外线老化;

    六、注意事项

    1、碟片选择:填充务必使用硬厚碟,不脱色;

    2、渗透剂选择:渗透修补剂不能用可溶于水的粘稠水玻璃类;

    3、底光要求:1000号水磨碟打磨出光在20-30度左右;

    4、晶面膏要求:打磨后的第一遍使用纳米二氧化硅晶面膏,不能含蜡质;

    5、分隔条染色:若存在分隔条时,大些的孔洞修补尽量用环氧修补,防止用无机干磨修补分隔条污染板面;

    6、晶面机或高速机要求:抛光务必用垫子,不可用钢丝棉,高抛机或正一品膏抛机转速不能高于1000转/分钟。

    经过此全新工艺处理过后的效果

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